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科研实验专用氧化铬靶材Cr2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
氧化铬（Cr2O3）为浅绿至深绿色细小六方结晶，灼热时变棕色，冷后仍变为绿色，结晶体极硬，极稳定，即使在红热下通入氢气亦无变化；溶于加热的溴酸钾溶液，微溶于酸类和碱类，几乎不溶于水、乙醇和丙酮；有刺激性；与许多二价金属的氧化物一起加热至高温能生成尖晶石型化合物。主要用于冶炼金属铬和碳化铬。用作搪瓷、陶瓷、人造革、建筑材料的着色剂、有机化学合成的催化剂、耐晒涂料、研磨材料、绿色抛光膏和印刷纸币的专用油墨。亦用于生产高铬砖、铬刚玉砖等耐火材料。
产品参数
中文名 氧化铬 化学式 Cr2O3 密度 5.21g/cm3
分子量 151.99 熔点 2435℃ 沸点 4000℃
纯度 99.99%
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。
