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![]() 清洗硅片对清洗剂要求很高,为达到理想的效果,按不同的目的和工艺条件,应正确的选用清洗剂。主要特点:1.硅片表面不易产生过腐蚀,无发黑、发蓝现象。2.清洗性能好,清洗后的硅片表面无残留,无发白现象。3.配合超声波清洗效果更好。4.不含磷,符合欧盟ROHS环保要求。5.低泡产品,超声波清洗线使用,不会有泡沫溢出。6.清洗后一般能减少电阻率,有利于提高转换率。清洗工艺:1.超声浸泡(流动超纯水,3-4分钟)2.超声浸泡(流动超纯水,3-4分钟)3.超声清洗(用量3%,温度50-65℃,3-5分钟)4.超声清洗(用量3%,温度50-65℃,3-5分钟)5.超声漂洗(流动超纯水,3-4分钟)6.超声漂洗(流动超纯水,3-4分钟)7.超声漂洗(流动超纯水,3-4分钟)8.漂 洗(流动超纯水,3-4分钟)9.脱水,烘干。10.残留较重的硅片可以适当延长清洗时间。11.以上清洗工艺为推荐工艺,工厂可以根据自身实际情况制定清洗工艺12.在清洗时清洗剂使用比例为100:3。 [详细介绍] |