清洗硅片对清洗剂要求很高,为达到理想的效果,按不同的目的和工艺条件,应正确的选用清洗剂。
主要特点:
1.硅片表面不易产生过腐蚀,无发黑、发蓝现象。
2.清洗性能好,清洗后的硅片表面无残留,无发白现象。
3.配合超声波清洗效果更好。
4.不含磷,符合欧盟ROHS环保要求。
5.低泡产品,超声波清洗线使用,不会有泡沫溢出。
6.清洗后一般能减少电阻率,有利于提高转换率。
清洗工艺:
1.超声浸泡(流动超纯水,3-4分钟)
2.超声浸泡(流动超纯水,3-4分钟)
3.超声清洗(用量3%,温度50-65℃,3-5分钟)
4.超声清洗(用量3%,温度50-65℃,3-5分钟)
5.超声漂洗(流动超纯水,3-4分钟)
6.超声漂洗(流动超纯水,3-4分钟)
7.超声漂洗(流动超纯水,3-4分钟)
8.漂 洗(流动超纯水,3-4分钟)
9.脱水,烘干。
10.残留较重的硅片可以适当延长清洗时间。
11.以上清洗工艺为推荐工艺,工厂可以根据自身实际情况制定清洗工艺
12.在清洗时清洗剂使用比例为100:3。